全世界 3D NAND 正加快向 300 层和更高规格迭代,铠侠结合闪迪率先于超高密度重叠技能上取患上要害进展。据业内媒体披露,两边依托晶圆间铜直接键合工艺,采用 MSA-CBA 多层重叠单位阵列架构,全世界初次完成 QLC 四级单位技能演示,为将来冲破千层级超高密度 3D NAND 奠基技能基础。
该项冲破性结果将在 6 月于 2026 年夏威夷 VLSI 超年夜范围集成电路钻研会正式发布。铠侠与闪迪暗示,新架构有用破解持久制约 3D NAND 扩容的三年夜痛点:存储单位电流衰减、制造历程晶圆翘曲、区块尺寸设计受限,为层数连续爬升扫清技能障碍。
从技能细节来看,两家企业已经公然 MSA-CBA 重叠键合布局道理图,并放出双片 218 字线阵列晶圆重叠成型的显微实测影像,技能落地路径清楚可落地。
于线路计划上,铠侠早已经锚定千层级方针。根据其技能计划,到 2027 年千字线 3D NAND 有望量产,裸片密度将到达 100Gbit/妹妹²。回首行业成长,3D NAND 层数从 2014 年 24 层升至 2022 年 238 层,八年扩容近十倍;按年均 1.33 倍迭代速率测算,2027 年落地千层产物具有充实技能可行性。
与此同时,三星也稳步加码千层 3D NAND 结构,推出多 BV NAND 架构,采用双单位晶圆叠加双周边晶圆的重叠方式,技能逻辑与铠侠方案高度趋同。行业遍及认为,单片晶圆物理极限约 500 层,多晶圆异构重叠已经成打击千层门坎的必由之路,三星计划 2030 年实现千层 NAND 商用。
除了传统重叠线路外,三星同步结构下一代铁电 NAND 技能,并结合英伟达、高校研发 PINO AI 仿真模子,把机能模仿效率晋升万倍级别。铁电 NAND 不仅可支撑千层重叠,还有能最高降低 96% 功耗,有望统筹产能扩容与绿色节能两重需求,成为后千层时代主要技能备选标的目的。
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